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四甲氧基硅烷可以水解形成二氧化硅研磨粒子(硅溶胶),其分散性及选择性好,活性极强,易于处理过程清洗的废液,常用于硅、SiO2层间介电层的抛光。
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四甲氧基硅烷-电子级
分子式:C4H12O4Si
分子量:152
产品特性
四甲氧基硅烷的二氧化硅含量比四乙氧基硅烷的高,做成二氧化硅研磨粒子成本更低。
半导体